在当今半导体工艺环境中，平均清洗间隔时间是限制刻蚀系统生产率提高的主要因素。为了保持稳定的性能，通常需要每月、甚至每周清洗刻蚀工艺腔室，并更换被等离子体工艺腐蚀的部件。2019 年 4 月，泛林集团与客户携手达成了一项宏伟目标，实现设备在无需维护清洗的情况下连续运行 365 天，创下里程碑式纪录。 泛林集团自维护设备创生产率新纪录 通常，刻蚀工艺模块需要定期维护并更换耗件。更换和清洗部件必须打开腔...

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