俄罗斯研究所7nm级制造技术生产预计2028年建成

俄罗斯研究所7nm级制造技术生产预计2028年建成

然而，到 2030 年，28nm 级的生产节点生产还存在问题，因为俄罗斯最先进的晶圆厂只可以使用 65nm 制造技术生产芯片。同时，由于制裁，美国和欧洲的晶圆厂工具制造商无法向俄罗斯提供设备，因此该国要想采用 28nm 节点，就必须设计和建造国产晶圆生产设备。换而言之，像 ASML 和 Applied Materials 这样的公司花了几十年的时间来开发和迭代的产品，俄罗斯必须在大约八年内完成。

显然，根据下诺夫哥罗德战略发展 网站（通过 CNews） 发布的计划，俄罗斯科学院俄罗斯应用物理研究所打算超越所有人的预期，到 2028 年生产出具有 7nm 能力的光刻扫描仪 。

该工具将与 ASML 或尼康等公司生产的扫描仪有所不同。例如，IAP 计划使用大于 600W 的光源（总功率，不是中焦功率），曝光波长为 11.3nm（EUV 波长为 13.5nm），这将需要比现在更复杂的光学器件。由于该设备的光源功率相对较低，这将使工具更紧凑，更易于构建。然而，这也意味着其扫描仪的产量将大大低于现代深紫外 (DUV) 工具的产量。根据 IAP 的说法，这可能不是问题。

然后，市场领导者花了大约 9 年时间才在 2018 年交付其支持 7nm 和 5nm 的 Twinscan NXT:2000i DUV 工具。台积电在其第一代 N7 制造技术中使用了具有多重图案的不太先进的工具，但 ASML 的时间安排介绍展示了从 65nm 过渡到 7nm 的难度。ASML 从 65nm 到 7nm 用了 14 年。现在，在芯片生产方面没有任何经验或与芯片制造商没有任何联系的 IAP 打算在大约 6 年的时间里从头开始制造一台支持 7nm 的机器进行量产。虽然这个计划听起来不太可行，但看起来 IAP 充满了热情。

IAP 计划在 2024 年之前建造一个功能齐全的 alpha 扫描仪。这个扫描仪不必提供高生产率或最大分辨率，但必须工作并对潜在投资者有吸引力。IAP 打算在 2026 年之前制造出具有更高生产力和分辨率的扫描仪测试版。这台机器应该可以量产，但预计其生产力不会达到最大。据说光刻扫描仪的最终迭代将在 2028 年问世。它应该获得高性能光源（因此更高的生产率）、更好的计量和整体能力。到 2028 年，尚不清楚 IAP 和/或其生产合作伙伴将能够生产多少台此类机器。

应该注意的是，晶圆厂设备不限于光刻扫描仪。还有其他类型的机器执行蚀刻、沉积、光刻胶去除、计量和检查操作，这些机器不是在俄罗斯制造的。此外，还有一些不太先进的机器，如超纯空气和水发生器，这些机器也不是在俄罗斯生产的。即使 IAP RAS 设法建造了光刻工具，俄罗斯仍然需要数百台工具才能建造现代化的晶圆厂。此外，晶圆厂需要在不向俄罗斯供应的国家生产的超纯原材料。

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